फोटोमास्क जापान 2027
फोटोमास्क जापान 2027 फोटोमास्क और एनजीएल मास्क टेक्नोलॉजी पर 33 वां सिम्पोज़ियम है, जिसे बुधवार 7 अप्रैल से शुक्रवार 9 अप्रैल 2027 को पीएसीआईआईसीओ YOKOHAMA, 1-1-1 मिनैटो मिराई, निशि-कु, योकोहामा 220-0012, जापान में एनेक्स हॉल में आयोजित किया गया था।.
संगोष्ठी का आयोजन फोटोमास्क जापान और एसपीआईई द्वारा किया जाता है, जो एसईएमआई जापान के सहयोग से एक तकनीकी प्रदर्शनी के साथ बीएसीयूएस और ईएमएलसी द्वारा सह-संगठित है। आधिकारिक भाषा अंग्रेजी है। कार्यक्रम में फोटोमास्क के लिए सामग्री को शामिल किया गया है; मुखौटा निर्माण प्रक्रिया कदम और विकसित करने, नक़्क़ाशी और सफाई के लिए उपकरण; बहु-बीम ईबी लेखकों सहित फोटोमास्क लेखन उपकरण और तकनीक; मेट्रोलॉजी, निरीक्षण और मरम्मत के लिए उपकरण और तकनीक; यूरोपीय संघ के लिए प्रौद्योगिकी और बुनियादी ढांचा, NIL और FPD मास्क; EDA, MDP, curvilinear ILT और DTCO; PsM, OPC, SMO और कई नमूनों के लिए फोटोमास्क; फोटोमास्क से संबंधित लिथोग्राफी प्रौद्योगिकियों; NGL मुखौटा प्रौद्योगिकियों और DSA सहित उनके अनुप्रयोगों; कुल मुखौटा समाधान के लिए रणनीति और व्यावसायिक चुनौतियों; सेमीकंडक्टर और इलेक्ट्रॉनिक चिप के लिए तैयार करना; एक समर्पित सत्र गुंजाइश में विश्वविद्यालय के छात्रों और पोस्टडॉक्टरल शोधकर्ताओं के लिए अकादमी में फोटोमास्क और लिथोग्राफी प्रौद्योगिकी शामिल है, जिसमें एक सर्वश्रेष्ठ शैक्षणिक पोस्टर पुरस्कार और HOYA शैक्षणिक पुरस्कार शामिल है।.
पीएमजे वेबसाइट के माध्यम से इलेक्ट्रॉनिक रूप से पीडीएफ फॉर्म में सार प्रस्तुत किए जाते हैं; जमा करने की समय सीमा 30 नवंबर 2026 है और पांडुलिपि की समय सीमा 31 मार्च 2027 है। स्वीकृति अधिसूचना जनवरी 2027 के अंत से बाद में ई-मेल द्वारा भेजे जाते हैं। Photomask जापान सचिवालय c/o PCO, Inc., 2-25 Sakurabashidori, Toyama 930-0004, जापान ([email protected]); SPIE कार्यवाही समन्वय जेनीडब्ल्यू@spie.org द्वारा नियंत्रित किया जाता है।.
प्रवेश हेतु रजिस्ट्रेशन करें, या बूथों में भाग लें।
स्थल के नक्शा एवं आसपास के होटल
योकोहामा – पैसिफिको योकोहामा, कानागावा, जापान